刀具打标机_刀具打标机生产厂

2022-04-19 09:19:28

聚焦系统的作用是将平行的激光束聚焦于一点。主要采用f-θ透镜,不同的f-θ透镜的焦距不同,打标效果和范围也不一样,光纤激光打标机选用进口聚焦系统,其标准配置的透镜焦距f=160mm,有效扫描范围Φ11

聚焦系统的作用是将平行的激光束聚焦于一点。主要采用f-θ透镜刀具打标机,不同的f-θ透镜的焦距不同金属激光打标机,打标效果和范围也不一样,光纤激光打标机选用进口聚焦系统,其标准配置的透镜焦距f=160mm,有效扫描范围Φ110mm。用户可根据需要选配型号的透镜。

可选配的F-θ透镜有:

f=100mm,有效聚焦范围Φ65mm。

f=160mm,有效聚焦范围Φ110mm。

YAG激光打标机

半导体泵浦激光打标机是使用波长为0.808um半导体激光二极管(侧面或端面)泵浦Nd:YAG介质,使介质产生大量的反转粒子在Q开关的作用下形成波长1.064um的巨脉冲激光输出,电光转换。半导体泵浦激光打标机与灯泵浦YAG就刚打标机相比有较好的稳定性、省电、不用换灯、等优点,价格相对较高。

钇铝石榴石型媒介是固体,激光器发射出接近红外线区域的1060nm的光波,有连续式、光笔式两种,通过改变输出能量,可得到不同强度的激光束。打标工艺有焦化法(深色标记)、发泡法(浅色标记)和烧蚀法(雕刻标记),标记质量co2激光打标机厂家

准分子型可发射出紫外范围的光波(100~400nm),媒介由氦、、、气体和氯、氟、、碘等卤素组成的混合物构成。

由于半导体泵浦的转换,模式好,更易聚焦出高能量的更小面积的光点,标记同样的物体时,其所需的外部能量会更小。同时其产生的废热也远远小于灯泵浦激光器,决定了其不需要灯泵浦激光器那样庞大的冷却系统。所以半导体泵浦的激光器系统的功耗比灯泵浦小得多。

一个50W的灯泵浦激光打标机的功耗在6KW左右,而一个50W半导体激光标记机的功耗只在2KW左右,以三年为例,一天工作24小时,一个月工作28天,一度工业用电1.1元,光耗电一项,一台半导体激光器就比一台灯泵浦激光器节省(6-2)KW*24小时*28天*12月*3年*1.1/度=10.645万 元!

“激光”一词是“LASER”的意译。LASER原是Light amplification by stimulated emissi on of radiation取字头组合而成的专门名词,在我国曾被翻译成“莱塞”、“光器” 、“光受激辐射放大器”等。1964年,钱学森院士提议取名为“激光”,既反映了“受激辐射”的科学内涵,又表明它是一种很强烈的新光源,贴切、传神而又简洁,得到我国科学界的一致认同并沿用。

从1961年中国一台激光器宣布研制成功,在全国激光科研、教学、生产和使用单位共 同努力下,我国形成了门类齐全、水平先进、应用广泛的激光科技领域,并在产业化上取得可喜进步,为我国科学技术、国民经济和建设作出了积极贡献,在国际上了也争得了一席之地。

1957年,王大珩等在长春建立了我国一所光学专业研究所——(长春)光学精密 仪器机械研究所(简称“光机所”)。在老一辈带领下,一批青年科技工作者迅速成长,邓锡铭是其中的突出代表。早在1958年美国物理学家肖洛、汤斯关于激光原理的发 表不久,他便积极倡导开展这项新技术研究,在短时间内凝聚了富有精神的中青年研究 队伍,提出了大量提高光源亮度、单位色性、相干性的设想和实验方案。1960年世界一台激光器问世。1961年夏,在王之江主持下,我国一台红宝石激光器研制成功。此后短短几年内,激光技术迅速发展,产生了一批先进成果。各种类型的固体、气体、半导体和化学激 光器相继研制成功。在基础研究和关键技术方面、一系列新概念、新方法和新技术(如腔的Q突变及转镜调Q、行波放大、铼系离子的利用、自由电子振荡辐射等)纷纷提出并获得实施,其中不少具有性。

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