北京精密激光打标机联系方式_光纤激光打标机报价__精密激光打标机供应商

2022-05-13 09:17:07

工作原理不同分类3.半导体侧泵YAG激光打标机:使用波长为808nm半导体激光二极管泵浦Nd:YAG介质,使介质产生大量的反转粒子在Q开关的作用下形成波长1064nm的巨脉冲激光输出,电光转换。4.半

工作原理不同分类

3.半导体侧泵YAG激光打标机:使用波长为 808nm 半导体激光二极管泵浦 Nd: YAG 介质,使介质产生大量的反转粒子在Q开关的作用下形成波长1064nm 的巨脉冲激光输出,电光转换。

4.半导体端泵YAG激光打标机:直接从激光晶体的端面将半导体泵浦光(808nm)泵入,经光学镜组输出产生激光。使行光转换效率大大提高。

5.光纤激光打标机:由光纤直接输出激光。

6.绿色激光打标机:绿光激光打标机是采用国际上先进的使用波长为532nm的激光泵浦技术(侧面泵浦或端面泵浦)研制而成精密激光打标机

半导体型

其发光源采用的是半导体列阵金属激光打标机,所以光转换效率非常高,达到40%以上;热耗损低,无需单独配备冷却系统;耗电少,1800W/H左右。整机性能非常稳定,属于免维护产品,整机免维护时间可达到150000小时,相当于10年免维护,没有灯的更换,无耗材。

基础配置及技术规格:

型号项目 CCC-DP50

激光器 CCC-DP50(相干激光模块)

扫描振镜 YAG-16mm镜片

聚焦透镜 1064-110

Q开关 英国Gooch & Housego

控制软件专业激光标记软件for Windows98/2000/XP

冷却系统 水冷

工作方式 静态标记字体 50种以上的标准字体,并特殊设计手写字体输入功能

输入电源 220V AC 50Hz

激光输出功率 0-50W

激光打标机

激光打标机

打标频率0.5-50KHZ

整机功率 1500W

打标线宽 0.02mm

标刻深度 ≤3毫米(视材料可调)标刻速度 ≤7000㎜/s

小字符 0.2mm

打标范围 标准:110mm×110mm备 注 精密三维升降操作台

关于避免结露

防止激光晶体及LD 腔面结露

禁止激光器系统在高湿度环境下工作,客户应确保环境湿度小于60%。当激光晶体温度与环境温度温差过大(大于10 度),将可能导致激光晶体结露,结露将导致激光器系统功率下降或损坏。因此当环境温度远大于水箱设定温度(大于10 度以上)时,严禁激光器系统处于单开水冷机而激光头不工作的状态co2激光打标机厂家。在此状态下,建议采用以下步骤进行操作:

在开机时,先打开冷水机,待制冷机温度显示低于30℃,启动电源并将电流缓慢调节至10A 左右;待制冷机温度显示在工作温度(18℃左右)时,再缓慢的将电流调节至工作电流(35A 左右)。

在关机时,先将电流缓慢的降至10A 左右并停止电源输出,关闭电源,再尽快关水冷机。如果不在大电流处工作,可以适当调高制冷机制冷温度(但不得高于25℃)务必在规定的环境内使用激光器系统设备(南方操作环境应加装空调)。

激光技术是二十世纪与原子能,半导体及计算机齐名的四项重大科技发明之一。激光具有很好的单色性,相干性,方向性,能在很小的面积中积聚很高的能量密度,特别适用于材料加工。七十年代末八十年代初,一项崭新的激光应用技术--激光打标技术在国际间悄然兴起,并迅速得到产业化,成为激光加工大的应用领域之一。  激光打标技术采用计算机受控激光作为加工手段,其基本原理是:计算机控制高能量密度的聚焦激光束按预定的轨迹作用于机械零部件,电子元器件,仪器仪表等需要进行标记的工件表面,使表层材料达到瞬间汽化或发生化学变化改变颜色,刻蚀出具有一定深度或颜色的文字,图案等,从而在工件表面留下性标记。

从1961年中国一台激光器宣布研制成功,在全国激光科研、教学、生产和使用单位共 同努力下,我国形成了门类齐全、水平先进、应用广泛的激光科技领域,并在产业化上取得可喜进步,为我国科学技术、国民经济和建设作出了积极贡献,在国际上了也争得了一席之地。

1957年,王大珩等在长春建立了我国一所光学专业研究所——(长春)光学精密 仪器机械研究所(简称“光机所”)。在老一辈带领下,一批青年科技工作者迅速成长,邓锡铭是其中的突出代表。早在1958年美国物理学家肖洛、汤斯关于激光原理的发 表不久,他便积极倡导开展这项新技术研究,在短时间内凝聚了富有精神的中青年研究 队伍,提出了大量提高光源亮度、单位色性、相干性的设想和实验方案。1960年世界一台激光器问世。1961年夏,在王之江主持下,我国一台红宝石激光器研制成功。此后短短几年内,激光技术迅速发展,产生了一批先进成果。各种类型的固体、气体、半导体和化学激 光器相继研制成功。在基础研究和关键技术方面、一系列新概念、新方法和新技术(如腔的Q突变及转镜调Q、行波放大、铼系离子的利用、自由电子振荡辐射等)纷纷提出并获得实施,其中不少具有性。

1“6403”高能钕玻璃激光系统 1964年启动,后从技术上判定热效应是根本性技术障碍,于1976年下马。这一项目对发展高能激光技术有历史贡献是不可忽视的,它使我国激光技术的水平上了一个台阶。其成果主要表现在:

(1)建成了具有工程规模的大口径(120毫米)振荡—放大型激光系统,大输出能量达32万焦耳;改善光束质量后达3万焦耳。

(2)实现了系统技术集成,成功地进行了实验,室内10米处击穿80毫米铝靶,室外2公里距离击穿0.2毫米铝耙,并系统地研究了强激光辐射的生物效应和材料破坏机理。

(3)一次揭示了强光对激光系统本身的光损伤现象和机制。

(4)一次深入和理解激光光束质量的重要性和物理内涵,采用了一系列提高光束质量 的性技术,如万焦耳级非稳腔激光器、片状激光器、振荡—扫瞄放大式激光系统、尖劈法光束质量诊断等。

(5)激光元器件和支撑技术有了突破性提高,如低吸收高均匀性钕玻璃熔炼工艺、高能脉冲氙气、高强度介质膜、大口径(1.2米)光学精密加工等。

(6)培养和造就 了一批技术骨干队伍。

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